ArF露光（フッ化アルゴンエキシマ露光）前工程 › リソグラフィ › 露光 › DUV露光（深紫外線露光）
ArF露光（フッ化アルゴンエキシマ露光）は、フッ化アルゴンのエキシマレーザが発する深紫外線を光源にして、マスクのパターンをウェーハ上のレジストへ縮小投影する露光である。KrF露光より短い波長を使うため、より細かいパターンを解像できる。レンズとウェーハの間を空気のまま露光するドライ方式と、純水で満たして解像度を上げるArF液浸露光に分かれる。
分類上の位置
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- ArF液浸露光（フッ化アルゴンエキシマ液浸露光）：ArF液浸露光（フッ化アルゴンエキシマ液浸露光）は、レンズとレジストを塗ったウェーハの間を純水で満たした状態でArF光を当て、パターンを転写する露光方式である。