OPC（光近接効果補正）｜前工程 › リソグラフィ › 計算機リソグラフィ

OPC（光近接効果補正）は、露光で生じる形の崩れを予測し、フォトマスクのパターンをあらかじめ別の形へ歪めておく補正技術である。露光波長より小さいパターンは線の端が縮んだり、周囲の密度によって太さが変わったりするため、マスク側で補うことでウェーハ上の仕上がりを設計に合わせる。補正するほどマスクのデータ量と描画時間が増え、検査の基準も変わる。