計算機リソグラフィ前工程 › リソグラフィ
計算機リソグラフィは、フォトマスクの図形や露光装置の光源の形を、計算機によるシミュレーションで求める手法の総称である。解像限界の近くでは回折によって描いた形と焼けた形がずれるため、欲しい焼き上がりから逆算して元の形を決める必要がある。代表的な手法に、マスク図形を補正するOPC（光近接効果補正）、照明とマスクを同時に解くSMO、補助図形を加えるSRAF配置がある。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”リソグラフィの下にある工程で、同じ分類にはほかに5工程がある。
- OPC（光近接効果補正）：OPC（光近接効果補正）は、露光で生じる形の崩れを予測し、フォトマスクのパターンをあらかじめ別の形へ歪めておく補正技術である。
- SMO（光源マスク最適化）：SMO（光源マスク最適化）は、露光装置がマスクを照らす光の形（照明形状）とマスク上の図形を、計算で同時に解いて1組の答えとして決める手法である。
- SRAF（解像限界以下補助パターン）配置：SRAF（解像限界以下補助パターン）配置は、本体の回路パターンの周囲に、ウェーハ上では像を結ばないほど細い補助図形をフォトマスクへ加える工程である。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”塗布・現像、露光、DSA（誘導自己組織化）、マルチパターニング（多重パターニング）、リソグラフィリワーク（レジスト剥離・再処理）