コンテンツにスキップ

SRAF(解像限界以下補助パターン)配置|前工程 › リソグラフィ › 計算機リソグラフィ

SRAF(解像限界以下補助パターン)配置は、本体の回路パターンの周囲に、ウェーハ上では像を結ばないほど細い補助図形をフォトマスクへ加える工程である。密なパターンに合わせた照明では孤立したパターンの焦点深度と露光余裕が小さくなるため、周囲の配置を変えて密な場合に近い条件を作り、その余裕を補う。補助図形自体が転写されない細さと位置に抑えることが条件になる。

工程の分類›前工程›リソグラフィ›計算機リソグラフィ› SRAF(解像限界以下補助パターン)配置

計算機リソグラフィの下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。

OPC(光近接効果補正)、SMO(光源マスク最適化)