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SMO(光源マスク最適化)|前工程 › リソグラフィ › 計算機リソグラフィ

SMO(光源マスク最適化)は、露光装置がマスクを照らす光の形(照明形状)とマスク上の図形を、計算で同時に解いて1組の答えとして決める手法である。波長と開口数が決まった装置で微細化を進めるには照明とマスクを工夫するしかなく、照明を先に決めると形成できないパターンが出るため、両者を一緒に最適化してプロセスマージンを確保する。マスク側だけを補正するOPCより自由度が大きい。

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計算機リソグラフィの下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。

OPC(光近接効果補正)、SRAF(解像限界以下補助パターン)配置