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ラジカル酸化(プラズマ酸化)|前工程 › 酸化・拡散

ラジカル酸化(プラズマ酸化)は、プラズマなどで作った酸素ラジカルを使ってシリコン表面を酸化し、酸化膜を作る方法である。ラジカルは反応性が高いため、酸素や水蒸気で加熱する熱酸化より低い温度で酸化が進む。結晶面の向きによる酸化速度の差が小さいので、角や側壁を含む立体構造にも厚さのそろった膜を作りやすい。窒化膜の表面も酸化できる。

工程の分類›前工程›酸化・拡散› ラジカル酸化(プラズマ酸化)

酸化・拡散の下にある工程で、同じ分類にはほかに3工程がある。

熱酸化、拡散、窒化処理