サリサイド（自己整合シリサイド形成）｜前工程 › コンタクト形成（MOL）

サリサイド（自己整合シリサイド形成）は、ゲートの上面とソース・ドレインの表面だけを、金属とシリコンの化合物（シリサイド）に変えて低抵抗にする工程である。金属を全面に付けて熱処理すると、シリコンに触れた部分だけが反応し、絶縁膜上に残った未反応の金属は薬液で除けるため、位置合わせのマスクを増やさずに済む。微細化でゲートと拡散層の抵抗が問題になったことから導入された。