Tier A ロジック / デバイス / プロセス統合
GEC 2026Gaseous Electronics Conference
今の状態
- 現在
- 採否通知後・開催準備段階投稿受付は終了
- 段階
- 投稿受付前
- 投稿受付中
- 投稿終了
- 採否通知
- プログラム公開
- 開催中
- 終了
- 次
- 11月2日〜6日開催開幕まであと18日米国・シカゴHilton Chicago
- 次の一手
- 聴講する人は参加登録と渡航の準備を進める時期です。公式サイト
- 日程
- 要旨締切
- 採否通知
- 開催
近い学会との違い
どんな学会？
低温プラズマの科学と技術の年次国際会議で、1948年からの要旨集が残る。プラズマ源、診断、モデリング、プラズマ化学からマイクロエレクトロニクス応用までを含む。
- 位置づけ
- Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
- 向いている人
- トランジスタ構造、プロセスインテグレーション、新材料の研究開発者、リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
- 主なテーマ
-
- low-temperature plasma
- plasma etch
- plasma deposition
- plasma-surface interaction
- semiconductor fabrication
- DRAM etch
- process modeling
- plasma diagnostics
- 発表者の所属
- 2025年 講演者の所属（30件） 企業33%大学53%研究機関13% 主な企業：Samsung Electronics、ASE Co., Ltd.、Lam Research、PSK、Quantemol
公式情報の目次14項目
会期・会場
2026年のGECは11月2〜6日にシカゴのHilton Chicagoで、APS Division of Plasma Physics（DPP）の第68回年会と合同で開かれます。公式サイトは合同会議に2,500人以上の物理学者が集まると見込んでいます。
詳しく（公式資料5項目）
2027年はポルトガルのリスボンでの開催が告知されています。
- 2026 会期・会場
- 2026-11-02〜06 / Hilton Chicago, Chicago, IL, USA GEC 2026 Home
- 2026 合同開催
- 68th APS Division of Plasma Physics Conference と合同 GEC 2026 Home
- 2026 見込み参加規模（DPP・GEC合同）
- 2,500+ physicists GEC 2026 Home
- 2026 会場住所
- 720 South Michigan Avenue, Chicago, IL 60605, USA GEC 2026 Venue
- 2027 開催地
- Lisbon, Portugal GEC 2026 Home
投稿・締切
2026年のアブストラクト受付は5月26日に始まり、7月29日に締め切られ、採否通知は9月4日の予定でした。アブストラクトは1,300字（約250語）以内で、一般向けのPresentation Summaryも添えます。
詳しく（公式資料6項目）
APS会員番号の欄には、非会員は「GEC abstract」と入力できます。
- 2026 アブストラクト受付開始
- 2026-05-26 GEC 2026 Abstract Submission
- 2026 アブストラクト締切
- 2026-07-29 GEC 2026 Abstract Submission
- 2026 採否通知
- 2026-09-04（tentative） GEC 2026 Abstract Submission
- アブストラクト字数
- 1,300字（約250語）以内 GEC 2026 Abstract Submission
- Presentation Summary
- 一般読者向けの要約（take-home messageと意義） GEC 2026 Abstract Submission
- APS非会員の投稿
- 会員番号欄に「GEC abstract」と入力 GEC 2026 Abstract Submission
査読・選考
GECの一般講演はアブストラクトで選考され、採択の通知が著者に送られます。アブストラクトには、問題、アプローチ、完了または予定の成果の状況を簡潔に書くことが求められます。
詳しく（公式資料4項目）
学生向けのStudent Award for Excellenceでは、委員会が選んだfinalistが口頭で発表し、審査員が受賞者を決めます。
- アブストラクトに求める内容
- 問題の特定、アプローチ、成果の状況 GEC 2026 Abstract Submission
- 発表区分
- 口頭（15分枠：発表12分＋質疑3分）またはポスター GEC 2026 Abstract Submission
- 採択後の義務
- 採択された場合は発表する意思と準備が必要 GEC 2026 Abstract Submission
- Student Award for Excellence の審査
- 委員会がfinalistを選び、審査員が口頭発表を聴いて受賞者を選出 GEC 2026 Awards
対象分野
公式サイトは重点領域として、プラズマ源の科学、診断、モデリング、プラズマ化学、基礎現象、原子分子衝突過程を挙げます。新しい応用領域としてマイクロエレクトロニクス、推進、バイオ、プラズマ医療、多相プラズマ、環境応用、大気圧プラズマも並びます。
主なトピック
- 高アスペクト比プラズマエッチングTEL TechnologyCenter, Americaの招待講演が、高アスペクト比エッチングにおけるイオンとラジカルの挙動のシミュレーションを取り上げます。名古屋大学の石川健治も、半導体プラズマ加工について招待講演を行います。
- プラズマ‐表面相互作用2026年のワークショップの1つです。
- AI/MLによるプラズマ制御AI/ML for Low-Temperature Plasmasのワークショップが組まれ、Session ChairはAli Mesbah（UC Berkeley）です。
詳しく（公式資料5項目）
2026年の招待講演には、高アスペクト比エッチングにおけるイオンとラジカルの挙動のシミュレーション、選択エッチングと選択成膜、成膜工程の計測といった半導体プロセスの題目が入っています。
- 重点領域
- plasma sources, diagnostics, modeling, plasma chemistry, basic phenomena, atomic and molecular collision processes GEC 2026 Home
- 新しい応用領域
- microelectronics, propulsion, biotechnology, plasma medicine, multiphase plasmas, environmental applications, atmospheric-pressure plasma systems GEC 2026 Home
- 2026 招待講演（半導体エッチング）
- Plasma etching: Simulating Ion and Radical Dynamics in High-Aspect-Ratio Plasma-Etch Applications（TEL TechnologyCenter, America） GEC 2026 Invited Speakers
- 2026 招待講演（選択プロセス）
- Selectivity in Radical Plasma processes — switching from selective etching to selective deposition（U Albany） GEC 2026 Invited Speakers
- 2026 招待講演（成膜計測）
- Metrology challenges and opportunities in semiconductor deposition processes（Lam Research Corp） GEC 2026 Invited Speakers
プログラム
2026年のワークショップは、Plasma-Surface Interactions in Low-Temperature Plasmas、Physics and Applications of ExB Plasmas、AI/ML for Low-Temperature Plasmasの3つです。招待講演には、2026年のAllis賞受賞者Mounir Laroussi（Old Dominion University）の講演と、石川健治（Nagoya U）のプラズマエッチングの講演が含まれます。
詳しく（公式資料6項目）
Student-Poster Prizesは、Executive Committeeが選んだ学生ポスター3件がbanquetで表彰されます。
- 2026 ワークショップ
- Plasma-Surface Interactions in Low-Temperature Plasmas GEC 2026 Workshops
- 2026 ワークショップ
- Physics and Applications of ExB Plasmas GEC 2026 Workshops
- 2026 ワークショップ
- AI/ML for Low-Temperature Plasmas（Session Chair: Ali Mesbah, UC Berkeley） GEC 2026 Workshops
- 2026 Allis Awardee 講演
- Mounir Laroussi（Old Dominion University）"Cold Plasma for Biology and Medicine: An Unexpected Research Journey" GEC 2026 Invited Speakers
- 2026 招待講演（日本・エッチング）
- Ishikawa Kenji（Nagoya U）"Plasma etching: Leading-edge semiconductor plasma processing ..." GEC 2026 Invited Speakers
- Student-Poster Prizes
- Executive Committeeが学生ポスター3件を選びbanquetで表彰 GEC 2026 Awards
発表と委員会の顔ぶれ
2025年 講演者の所属（30件）
- 企業33.3%
- 大学53.3%
- 研究機関13.3%
企業
- Samsung Electronics3
- ASE Co., Ltd.1
- Lam Research1
- PSK1
- Quantemol1
- RTM1
- SK hynix1
- TEL America1
国・地域
- 韓国12
- 米国7
- 日本3
- イタリア1
- スペイン1
- ドイツ1
- フランス1
- 英国1
- 中国1
2025年 委員会の所属（30件）
- 企業16.7%
- 大学76.7%
- 研究機関6.7%
企業
- Applied Materials Inc.2
- Samsung Electronics2
- Tokyo Electron US1
2025年 スポンサー・出展（12団体）
- 企業75%
- 研究機関8.3%
- 公的機関16.7%
- Applied Materials
- Tokyo Electron
- Samsung Electronics
- WONIK
- Lam Research
- Korea Institute of Fusion Energy
- SK hynix
- H&iruja
- Hiden
- KWT Solution
- Seoul Metropolitan Government
- Korea Tourism Organization
委員会・展示
GEC Executive Committeeには、米国、オーストラリア、日本の所属機関のメンバーがいます。日本からは名古屋大学の石川健治がappointed memberとして加わり、Tokyo Electron USのSergey Voronin、Applied MaterialsのShahid Raufなど企業所属のメンバーも含まれます。
詳しく（公式資料4項目）
- Executive Committee（日本の所属）
- Ishikawa Kenji（Nagoya University, Japan, appointed member） GEC 2026 Committee Members
- Executive Committee（企業所属）
- Sergey Voronin（Tokyo Electron US, USA） GEC 2026 Committee Members
- Executive Committee（企業所属）
- Shahid Rauf（Applied Materials Inc., USA） GEC 2026 Committee Members
- Executive Committee（Chair-elect）
- Trevor Lafleur（Univ New South Wales Canberra, Australia） GEC 2026 Committee Members
論文の公開
GECの記録はアブストラクトの形で残されています。公式の歴史ページは2018〜2021年のオンラインBulletinへのリンクと、1948〜2017年のBooks of Abstractsを年ごとのPDFで掲げています。
詳しく（公式資料4項目）
2020年と2021年のオンライン開催の講演録画は、当該会議の登録参加者向けに公開されています。
- Books of Abstracts の収録範囲
- 1948〜2017年 GEC History
- オンラインBulletin
- 2018〜2021年分へのリンク（meetings.aps.org） GEC History
- 2020・2021 講演録画
- 当該会議の登録参加者に公開 GEC General Home
- 2026 プログラム掲載先
- schedule.aps.org（DPP・GEC合同スケジュール） GEC 2026 Program
沿革
公式の歴史ページはBooks of Abstractsを1948年分から掲げ、2026年が79th Conferenceにあたります。米国外の開催には、2010年パリ、2016年ボーフム、2022年仙台、2025年ソウルがあります。
詳しく（公式資料5項目）
2020年はVirtual Conferenceで、公式サイトは2020年と2021年をvirtual GECsと呼んでいます。
- 最古のBook of Abstracts
- 1948年（GaseousElectronics_1948.pdf） GEC History
- 2022 開催地
- Sendai, Japan（2022年10月4〜8日） GEC Past conferences
- 2025 開催地
- Seoul, Korea GEC Past conferences
- 2020 開催形式
- Virtual Conference GEC Past conferences
- 米国外の開催（例）
- 2010 Paris, France / 2016 Ruhr-University Bochum, Germany GEC Past conferences
近い学会との違い
公式サイトはGECを、部分電離した衝突性プラズマ中の物理・化学過程と、原子・分子・荷電粒子・光子・波・場の間の過程について考えを交わす場と説明しています。2026年はAPS DPPの年会と会場と週を共有する合同開催です。
詳しく（公式資料3項目）
出展ページは、GECの中核をplasma-processingのコミュニティ、DPP側をfusion energy、計算プラズマ科学、診断、先端製造を含む広いプラズマ物理の領域と書いています。
- 対象とする過程
- partially ionized, collisional plasma 中の物理・化学過程とダイナミクス GEC General Home
- 2026 合同開催の性格
- GECのplasma-processingコミュニティとDPPのfusion・計算プラズマ等の領域 GEC 2026 Exhibitors
- 2026 対象分野（出展案内）
- low-temperature plasmas, plasma chemistry, semiconductor plasma processing, diagnostics, applied plasma technologies GEC 2026 Exhibitors
参加・活用
学生は口頭発表でStudent Award for Excellence（賞金1,000ドル）、ポスターでStudent-Poster Prizesに応募でき、学部生の参加も奨励されています。Student-Poster Prizeの申込締切は10月16日です。
詳しく（公式資料4項目）
Student Travel Grantは登録費全額と宿泊・旅費の一部を支給し、締切は7月29日でした。企業の調査担当者は、Lam Researchの成膜計測やTELの米国拠点のエッチングといった招待講演の題目と、出展案内が対象分野に挙げるsemiconductor plasma processingから、半導体関連の話題を探せます。
- Student Award for Excellence
- 賞金1,000ドルと賞状、年1名 GEC 2026 Awards
- 2026 Student Travel Grant
- 登録費全額と宿泊・旅費の一部、締切2026-07-29 GEC 2026 Grants and Scholarships
- 学部生の参加
- 学生ポスター賞への参加を奨励 GEC 2026 Awards
- 2026 Student-Poster Prize 申込締切
- 2026-10-16 GEC 2026 Awards
名称・主催
詳しく（公式資料5項目）
- 2026 回次・名称
- 79th Annual Gaseous Electronics Conference GEC 2026 Home
- 位置づけ
- APS Division of Atomic, Molecular, and Optical Physics（DAMOP）のspecial meeting GEC General Home
- 2026 GEC Chair
- Mark Koepke（West Virginia Univ, USA） GEC 2026 Committee Members
- 2026 GEC Secretary
- Davide Curreli（Univ Illinois-UC, USA） GEC 2026 Committee Members
- 開催頻度
- 年次（annual） GEC General Home
よくある質問
GEC 2026はいつ、どこで開かれますか。
2026年11月2〜6日に米国シカゴのHilton Chicagoで、第68回APS Division of Plasma Physics年会と合同で開かれます。
投稿にはフルペーパーが必要ですか。
アブストラクトで申し込みます。1,300字（約250語）以内で、問題、アプローチ、成果の状況を簡潔に書き、一般向けのPresentation Summaryも添えます。
口頭発表の持ち時間は。
一般講演の口頭発表は15分枠で、発表12分と質疑3分です。ポスター発表も選べます。
半導体プロセスの発表はありますか。
公式サイトは新しい応用領域にmicroelectronicsを挙げ、2026年の招待講演にはプラズマエッチング、選択エッチングと選択成膜、成膜工程の計測などの題目があります。
日本で開かれたことはありますか。
公式の開催一覧では、2022年10月4〜8日に仙台で開かれています。
次回の開催地は。
GEC2027はポルトガルのリスボンで開かれると公式サイトに告知されています。
公式資料
- GEC 2026 Home 公式サイト
- GEC 2026 Abstract Submission 募集要項
- GEC 2026 Program プログラム
- GEC 2026 Invited Speakers プログラム
- GEC 2026 Workshops プログラム
- GEC 2026 Committee Members 委員会
- GEC 2026 Awards 公式サイト
- GEC 2026 Grants and Scholarships 公式サイト
ほか10件
- GEC 2026 Sponsor list スポンサー・展示
- GEC 2026 Exhibitors スポンサー・展示
- GEC 2026 Venue 会場
- GEC 2026 Governance 公式サイト
- GEC General Home 公式サイト
- GEC History 沿革
- GEC Past conferences 沿革
- GEC 2025 committee members 公式サイト
- GEC 2025 workshops プログラム
- GEC 2025 sponsor list 公式サイト