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Tier B パワー半導体 / ワイドバンドギャップ

ISPlasma 2027International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials

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近い学会との違い

  • PLASMA2017BPlasma science and engineering, plasma processing, fusion plasma, discharge ph…
  • ICNSSGaN、AlN、nitride semiconductors、epitaxy
  • IWNSGaN、AlN、epitaxy、RF devices
  • JSPF AnnualBplasma processing、EUV and light sources、thin films、surface treatment
  • JSAP Spring / AutumnBsemiconductor、applied physics、thin films、photonics

どんな学会？

プラズマ科学と、その窒化物・ナノ材料への応用を対象とする国際会議。約500人の研究者・技術者が集まり、ワイドバンドギャップ半導体、薄膜、ナノ材料の発表が並ぶ。

位置づけ
Tier B 国内主要・地域専門・実務主要イベント Tierの基準
向いている人
パワー半導体や化合物半導体のデバイス技術者。国内・地域の大会やテーマを絞った会議で、発表と交流の場です。
主なテーマ
  • nitride semiconductors
  • WBG
  • plasma processing
  • nanomaterials
  • topical sessions
発表者の所属
2025年 講演者の所属（28件） 主な企業：Air Liquide、Photo electron Soul Inc.、TOKYO ELECTRON
投稿形式
要旨・プログラム委員会が選考
公式情報の目次13項目

会期・会場

2027年の回は3月2日から6日までの5日間で、会場は名古屋大学東山キャンパスです。公式言語は英語です。

詳しく（公式資料6項目）

過去の会場には名古屋大学、名城大学、中部大学があり、2021年はVirtual Symposium、2022年はOnline Symposiumでした。

2027 会期
2027-03-02〜06 Call for Papers（PDF）
2027 会場
Nagoya University (Higashiyama Campus), Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya, Japan Venue
2027 公式言語
English Symposium Scope
2027 program日程
Tuesday, March 2 〜 Saturday, March 6（PROGRAM (TENTATIVE)） Program (Tentative)
参加規模（公式説明）
approximately 500 scientists and engineers ISPlasma2027/IC-PLANTS2027 公式トップ
2021・2022 開催形式
2021: Virtual Symposium / 2022: Online Symposium Past conferences

投稿・締切

2027年の一般投稿はテンプレートに沿ったPDFのabstractをConfitの投稿システムから提出する形式です。締切は当初の2026年9月30日から10月19日に延長されました。

詳しく（公式資料5項目）

abstractは校正されずにそのまま印刷されるため、題名・著者・所属は入力どおりに載ります。

2027 abstract締切
2026-09-30 → 2026-10-19に延長 ISPlasma2027/IC-PLANTS2027 公式トップ
2027 投稿システム
Confit（isplasma.confit.atlas.jp） Abstract Submission
2027 投稿形式
テンプレートに沿ったPDFのabstract Abstract Submission
2027 abstractの扱い
校正なしでそのまま印刷 Abstract Submission
2027 早期参加登録
2026年12月上旬開始〜2027-01-31 Important Dates（2027）

査読・選考

公式サイトのabstract投稿ページは、提出されたabstractを校正せずにそのまま印刷すると書いています。2027年のProgram Committeeの委員長はMeijo UniversityのHajime Sakakitaです。

詳しく（公式資料3項目）

Keynote / Invited Speakersは一般用のabstractテンプレートを使いません。

2027 Program Committee 委員長
Hajime Sakakita（Meijo University） Call for Papers（PDF）
2027 abstract校正
行わない Abstract Submission
2027 Keynote / Invited の扱い
Keynote / Invited Speakersは一般用テンプレートを使わない Abstract Submission

対象分野

対象はPlasma Science & Technologies、Wide Bandgap Semiconductors、Nanomaterials、Bio Applicationsの4領域です。Wide Bandgap Semiconductorsでは、GaNやAlNの結晶成長、薄膜堆積、エッチング、デバイス作製をプラズマ加工・製造技術の視点から取り上げると公式ページが書いています。

主なトピック

  • GaN・AlNのプラズマ加工Wide Bandgap Semiconductorsは結晶成長・薄膜堆積・エッチング・デバイス作製をプラズマ加工の視点から取り上げます。
  • Etching / Atomic Layer ProcessPlasma Science & Technologiesの小分類で、2027年はLam Researchの講演者が3D集積デバイスのエッチングを題に掲げています。
  • WBGパワー半導体の信頼性2027年のWide Bandgap Semiconductors KeynoteはGaNとSiCの信頼性物理を題にしています。
  • バルクGaN成長2027年のTutorialで大面積GaN基板の成長が取り上げられます。
  • Plasma DX & AIプラズマ科学の小分類として2027年のscopeに入り、Topical Sessionにもデータ駆動型の材料開発講演があります。
詳しく（公式資料5項目）

Plasma Science & TechnologiesにはEtching ProcessやAtomic Layer Process、Plasma DX & AIといった半導体プロセス寄りの小分類が並びます。

2027 Wide Bandgap Semiconductorsの範囲
GaN・AlNなどのcrystal growth、thin-film deposition、etching、surface modification、device fabrication Symposium Scope
2027 Wide Bandgap Semiconductors 小分類
Crystal Growth / Characterization / Device Processing / Optical and Optoelectronic Devices / Electron & Power Devices Symposium Scope
2027 Plasma Science & Technologies 小分類（抜粋）
Plasma Source / Modeling & Simulation / Plasma DX & AI / Thin Film Deposition Process / Etching Process / Atomic Layer Process ほか Symposium Scope
2027 Nanomaterials の範囲
plasma-enabled synthesis, functionalization, and integration of low-dimensional materials Symposium Scope
2027 Bio Applications の範囲
biosensing, medical applications, agri-food technologies Symposium Scope

プログラム

2027年の暫定programは、Opening、Plenary Lecture、ISPlasma Prize Lecture、Keynote Lecture、Tutorial Lecture、Topical Session、Poster Session 1・2、Hall of Fame Lecture、Award Ceremonyで構成されます。Wide Bandgap SemiconductorsのKeynoteはUniversity of PadovaのMatteo MeneghiniがGaNとSiCの信頼性を、TutorialはポーランドのMichal BockowskiがバルクGaN成長を題にしています。

詳しく（公式資料7項目）

招待講演者にはLam Researchの所属者も含まれます。

2027 Plenary
Masashi Hanada（National Institute Quantum Secience and Technology, JAPAN） Plenary and Keynote Speakers
2027 Keynote（Wide Bandgap Semiconductors）
Matteo Meneghini（University of Padova, ITALY） Plenary and Keynote Speakers
2027 Tutorial（Wide Bandgap Semiconductors）
Michal Bockowski（Institute of High Pressure Physics Polish Academy of Sciences, POLAND） Tutorial
2027 招待講演（Plasma Science & Technologies、企業所属の例）
Thorsten Bernd Lill（Lam Research, USA） Invited Speakers (Plasma Science & Technologies)
2027 招待講演（Wide Bandgap Semiconductors の例）
Siddharth Rajan（Ohio State University, USA） Invited Speakers (Wide Bandgap Semiconductors)
2027 暫定programの構成要素
Opening / Plenary Lecture / ISPlasma Prize Lecture / Keynote Lecture / Tutorial Lecture / Topical Session / Poster Session 1・2 / Hall of Fame Lecture / Award Ceremony Program (Tentative)
2027 Topical Session（Plasma Science and Technology の例）
Toshio Kamiya（Institute of Science Tokyo, JAPAN） Topical Session

発表と委員会の顔ぶれ

2025年 講演者の所属（28件）

プログラム

  • 企業10.7%
  • 大学71.4%
  • 研究機関17.9%

企業

  1. Air Liquide1
  2. Photo electron Soul Inc.1
  3. TOKYO ELECTRON1

国・地域

  1. 日本20
  2. ドイツ2
  3. 台湾2
  4. スロバキア1
  5. デンマーク1
  6. 英国1
  7. 米国1

2025年 委員会の所属（122名）

委員会名簿

  • 企業4.9%
  • 大学89.3%
  • 研究機関5.7%

企業

  1. Kioxia Corporation2
  2. Austin Plasma Lab, Tokyo Electron America Inc.1
  3. Sony Semiconductor Solutions Corporation1
  4. Tokyo Electron Miyagi, Ltd.1
  5. TOKYO ELECTRON TECHNOLOGY SOLUTIONS LIMITED1

2025年 スポンサー・出展（45団体）

スポンサー一覧

  • 企業31.1%
  • 大学15.6%
  • 研究機関17.8%
  • 学会・団体35.6%
  • The Japan Society of Applied Physics
  • Nagoya University
  • Chubu University
  • Meijo University
  • Nagoya Institute of Technology
  • The Japan Society of Plasma Science and Nuclear Fusion Research
  • The Japanese Association for Crystal Growth
  • Aichi Industrial Research Association
  • Aichi Science & Technology Foundation
  • The Chemical Society of
  • Chubu Region Institute for Social and Economic Research
  • The Electrochemical Society of
ほか33団体
  • The Forum for Atomic and Molecular Data and Their Applications
  • Gifu Industries' Association
  • Gifu Economic and Industrial Promotion Center
  • Gifu University
  • Greater Nagoya Initiative Center (GNIC)
  • The Institute of Electrical Engineers of
  • The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers
  • Japan Fine Ceramics Center
  • Japan Society of Electromagnetic Wave Energy Applications
  • The Japan Society of Mechanical Engineers
  • The Japan Society of Vacuum and Surface Science
  • Mie University
  • Nagoya Chamber of Commerce & Industry
  • Nagoya Industrial Science Research Institute
  • Nagoya Industries Promotion Corporation
  • National Institute of Natural Sceiences National Institute for Fusion Science
  • The Society of Chemical Engineers
  • The Surface Finishing Society of
  • Toyohashi University of Technology
  • NGK Insulators
  • Shibaura Mechatronics
  • HyBridge
  • AGC
  • Kioxia Corporation
  • Hitachi High-Tech
  • TECHNOPORT
  • Tokyo Electron
  • NTK Ceratec
  • Ushio Inc.
  • Fujikin
  • HS Corporation
  • Innovation Science
  • Science Shokai

委員会・展示

2027年のOrganizing Committee委員長はNagoya UniversityのKenji Ishikawaです。KIOXIAやHitachiといった企業の所属者も委員に入っています。

詳しく（公式資料6項目）

後援（Supported by）にはAichi Industrial Research Association、日本化学会、日本機械学会、日本真空・表面科学会などが並びます。

2027 Organizing Committee 委員長
Kenji Ishikawa（Nagoya University） Committee
2027 Executive Committee 委員長
Hirohiko Tanaka（Nagoya University） Call for Papers（PDF）
2027 Organizing Committee の企業所属委員
Mitsuhiro Omura（KIOXIA Corporation） Committee
2027 Organizing Committee の国外所属委員
Chung Yuan Christian University（TAIWAN）/ University of Philippines（PHILIPPINES） Committee
2027 Program Committee の企業所属委員（例）
Toshiyuki Sasaki（Kioxia Corporation）/ Tsubasa Imamura（Hitachi, Ltd.） Committee
2027 後援（抜粋）
Aichi Industrial Research Association / The Chemical Society of Japan / The Japan Society of Mechanical Engineers / The Japan Society of Vacuum and Surface Science ほか Sponsors（共催、協賛、後援）

論文の公開

2027年の回はJJAP（Japanese Journal of Applied Physics）の特集号を予定しておらず、JJAPへの通常投稿を勧めています。JJAPまたはAPEXに論文が採択された発表者には、翌年のISPlasma2028の参加費割引が1人分用意されます。

詳しく（公式資料4項目）
2027 JJAP特集号
予定なし（通常投稿を推奨） Abstract Submission
2027 対象となる論文種別
JJAP Regular Papers / Rapid Communication / Brief Note / Applied Physics Express (APEX) Abstract Submission
2027 論文採択者の特典
ISPlasma2028参加費の割引（1人分） Abstract Submission
2027 abstractへの掲載情報
題名・著者名・所属は入力どおりに掲載 Abstract Submission

沿革

公式のPast conferencesはISPlasma2009（名古屋大学）から始まり、2014年からIC-PLANTSとの併記になっています。会場は名古屋大学、名城大学、中部大学の間で移っており、2024年はAPSPT-13とも合同でした。

詳しく（公式資料5項目）
初回（Past conferences の最初）
ISPlasma2009 / Nagoya University Past conferences
IC-PLANTS併記の開始
ISPlasma2014/IC-PLANTS2014（Meijo University） Past conferences
2024 合同開催
ISPlasma2024/IC-PLANTS2024/APSPT-13（Nagoya University） Past conferences
2025・2026 会場
2025: Chubu University / 2026: Meijo University Past conferences
2026 abstract締切（前年度の例）
2025-09-30 → 2025-10-19 ISPlasma2026 Important Dates（前年度）

参加・活用

WBG半導体のプロセスを追う人は、Wide Bandgap Semiconductorsの招待講演・Tutorialに加え、Plasma Science & TechnologiesのEtching Processの講演も同じ会期で聴けます。JJAP・APEXに論文が採択されると翌年の参加費割引があり、公式ページは会場で論文の査読者を見つけることも勧めています。

詳しく（公式資料2項目）
2027 論文投稿に関する公式の助言
会場で発表内容を理解する査読者を見つけることを勧める Abstract Submission
2027 企業向けの申込区分
Application for Corporate Sponsors（企業協賛申込）/ Application for Exhibitors, Program Advertisement（企業展示、広告） ISPlasma2027/IC-PLANTS2027 公式トップ

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
2027 正式名称（ISPlasma）
19th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials Call for Papers（PDF）
2027 合同開催（IC-PLANTS）
20th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2027/IC-PLANTS2027) Call for Papers（PDF）
2027 主催
The Japan Society of Applied Physics Sponsors（共催、協賛、後援）
2027 共催
Nagoya University / Chubu University / Meijo University / Nagoya Institute of Technology / The Japan Society of Plasma Science and Nuclear Fusion Research / The Japanese Association for Crystal Growth Sponsors（共催、協賛、後援）
2027 事務局
Inter Group Corp.（名古屋市中村区） ISPlasma2027/IC-PLANTS2027 公式トップ
開催頻度
ISPlasma2009から毎年（Past conferencesに2009〜2026の各年が並ぶ） Past conferences

よくある質問

ISPlasma2027はいつ、どこで開かれますか？

2027年3月2日から6日まで、名古屋大学東山キャンパス（名古屋市千種区）で開かれます。

abstractの締切はいつですか？

当初は2026年9月30日でしたが、2026年10月19日に延長されています。提出はConfitの投稿システムからPDFで行います。

パワー半導体の研究は対象に入りますか？

Wide Bandgap Semiconductorsの小分類にElectron & Power Devicesがあり、2027年のKeynoteはGaNとSiCのパワー半導体の信頼性を題にしています。

発表をまとめた論文誌の特集号はありますか？

2027年の回はJJAPの特集号を予定しておらず、JJAPやAPEXへの通常投稿を勧めています。採択されるとISPlasma2028の参加費が1人分割引になります。

主催はどこですか？

主催はThe Japan Society of Applied Physicsで、名古屋大学・中部大学・名城大学・名古屋工業大学、プラズマ・核融合学会、日本結晶成長学会が共催しています。

いつから開かれていますか？

公式のPast conferencesはISPlasma2009（名古屋大学）から並んでおり、2014年からはIC-PLANTSとの合同表記です。

公式資料

  1. ISPlasma2027/IC-PLANTS2027 公式トップ 公式サイト
  2. Call for Papers（PDF） 募集要項
  3. Symposium Scope 公式サイト
  4. Important Dates（2027） 募集要項
  5. Abstract Submission 募集要項
  6. Venue 会場
  7. Program (Tentative) プログラム
  8. Plenary and Keynote Speakers プログラム
ほか15件
  1. Tutorial プログラム
  2. Invited Speakers (Plasma Science & Technologies) プログラム
  3. Invited Speakers (Wide Bandgap Semiconductors) プログラム
  4. Topical Session プログラム
  5. Committee 委員会
  6. Sponsors（共催、協賛、後援） スポンサー・展示
  7. Past conferences 沿革
  8. ISPlasma2026 Important Dates（前年度） 過去回
  9. ISPlasma 2025 official site 公式サイト
  10. ISPlasma 2025 committee 公式サイト
  11. ISPlasma 2025 program プログラム
  12. ISPlasma 2025 plenary and keynote speakers プログラム
  13. ISPlasma 2025 sponsors 公式サイト
  14. ISPlasma 2025 important dates 募集要項
  15. ISPlasma 2025 venue 公式サイト