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Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産

MNC 2026International Microprocesses and Nanotechnology Conference

今の状態

現在
投稿受付終了・開催準備段階通常投稿・Late News投稿は終了
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月10日〜13日開催開幕まであと26日日本・福岡Hotel New Otani Hakata
次の一手
投稿は締め切られました。聴講は参加登録から申し込めます。公式サイト
日程
  1. 要旨締切
  2. Late News締切
  3. 開催

近い学会との違い

どんな学会？

応用物理学会が開くマイクロプロセスとナノテクノロジーの国際会議で、30回を超えて続く。電子・イオンビーム、パターニング材料、ナノ加工、計測、MEMSの研究に、海外の研究機関や装置企業の講演が加わる。

位置づけ
Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
主なテーマ
  • advanced lithography
  • patterning materials
  • nano metrology
  • ALP
  • NIL
  • MEMS
発表者の所属
2025年 プログラムの筆頭著者の所属（314件） 主な企業：NTT、Brewer Science、Air Liquide Labs.、Applied Materials、ASML
投稿形式
要旨・査読/投稿審査あり・Late News枠あり
主催
The Japan Society of Applied Physics（応用物理学会）
開始年
1988年
公式情報の目次14項目

会期・会場

MNC 2026は2026年11月10日〜13日にHotel New Otani Hakata（福岡）で開かれます。初日の11月10日にはkeynote講演がオンデマンドで公開され、視聴期間は12月10日までです。

詳しく（公式資料5項目）

Poster Session Iは11月12日15:40-17:10に組まれています。

2026 会期
2026-11-10〜13 MNC 2026 General
2026 会場
Hotel New Otani Hakata, Fukuoka, Japan MNC 2026 General
2026 keynoteの公開形式
keynoteは11月10日からオンデマンドのみ MNC 2026 Keynote
2026 keynote動画の視聴期間（program）
2026-11-10〜12-10 MNC 2026 Program (PDF ver5)
2026 Early Bird登録締切
2026-10-16 MNC 2026 Home

投稿・締切

投稿はA4の1〜2ページのPDF abstractで、2ページでの提出が推奨されています。2026年の通常abstract締切は7月1日から7月10日へ延長され、Late News Paperの締切は9月1日でした。

詳しく（公式資料7項目）

採否通知は通常投稿が8月末ごろ、Late Newsが9月20日ごろです。採否決定後はabstractの差し替え、著者追加、題目変更ができません。

2026 通常abstract締切
2026-07-01（7月10日に延長） MNC 2026 Abstract
2026 Late News Paper締切
2026-09-01 MNC 2026 Abstract
2026 abstractのページ数
1〜2ページ（2ページ推奨） MNC 2026 Abstract
2026 採否通知
通常投稿は8月末ごろ、Late Newsは9月20日ごろ MNC 2026 Abstract
2026 abstractファイル
PDF、3MB未満、A4（または21.6cm×28cm） MNC 2026 Abstract
2026 abstract提出サイト開設
6月10日 MNC 2026 Home
2026 採否後の差し替え
採否決定後はabstractの差し替え・著者追加・題目変更不可 MNC 2026 Abstract

査読・選考

不採択の主な原因は、図表など具体的な結果と実験・理論手順の記述の不足だと公式ページは説明しています。口頭かposterかの最終決定はProgram Committeeが行い、審査開始後はabstractを修正できません。

詳しく（公式資料4項目）

会議後のJJAP投稿はJJAPの通常手順で査読されます。

2026 不採択の主な原因（公式説明）
図表など具体的な結果と、実験・理論手順の記述の不足 MNC 2026 Abstract
2026 発表形式の決定
Program Committeeが最終決定 MNC 2026 Abstract
2026 審査開始後の修正
審査開始後は修正不可 MNC 2026 Abstract
2026 JJAP論文の査読
JJAPの通常手順で査読 MNC 2026 Instruction JJAP

対象分野

公式の概要は、photon・electron・ionなどの粒子とナノ材料を使うリソグラフィ科学とプロセス技術を議論の中心に置き、bio・医療情報・通信との融合応用までを範囲に含めています。セクションにはSection 1のLithography, Metrology and Related Technologies（1-1 Advanced Lithography and Patterning、1-2 Electron and Ion Beam Technologies、1-3 Patterning Materials）、Nano Surfaces, Interfaces, and Advanced Nano Metrology、Section 3のNanoimprint, Hybrid-NIL, Biomimetics, and Functional Surfaces、Section 5のMicrosystem Technology and MEMS、Section 6のAtomic Layer Processing（ALP）があります。

主なトピック

  • Advanced Lithography and PatterningSection 1-1です。2026年のSymposium AはAI × High-NA EUVを扱います。
  • Electron and Ion Beam TechnologiesSection 1-2として独立しています。
  • Patterning MaterialsSection 1-3で、2026年はHitachi High-Techのphotoresist keynoteがあります。
  • Nanoimprint / Hybrid-NILSection 3としてBiomimeticsとFunctional Surfacesと同じ枠に入ります。
  • Atomic Layer Processing (ALP)Section 6で、2026年のSymposium AはLithographyとALPの合同です。
  • Quantum Computing向けプロセスとデバイスSymposium Bが「Process and Device Technologies for Quantum Computing IV」です。
  • Microsystem Technology and MEMSSection 5のMicrosystem Technology and MEMSです。
詳しく（公式資料6項目）
公式の対象範囲（2026 General）
photon、electron、ionなどを使うリソグラフィ科学とプロセス技術、ナノ材料 MNC 2026 General
2026 Section 1
1: Lithography, Metrology and Related Technologies（1-1 Advanced Lithography and Patterning、1-2 Electron and Ion Beam Technologies、1-3 Patterning Materials） MNC 2026 General
2026 Section 2-6
Nano Surfaces, Interfaces, and Advanced Nano Metrology MNC 2026 General
2026 Section 3
Nanoimprint, Hybrid-NIL, Biomimetics, and Functional Surfaces MNC 2026 General
2026 Section 5
Microsystem Technology and MEMS MNC 2026 General
2026 Section 6
Atomic Layer Processing (ALP) MNC 2026 General

プログラム

2026年のplenaryにはimecのGeert Vandenberghe氏、理化学研究所のSeigo Tarucha氏、University of TwenteのWilfred van der Wiel氏が登壇します。Special TalkはASMLのGreet Storms氏、keynoteにはHitachi High-TechのToru Fujimori氏によるphotoresistの変遷の講演があります。

詳しく（公式資料8項目）

シンポジウムはAI × High-NA EUV × Novel Materials × Sustainability（LithographyとALPの合同）と、量子計算のプロセスとデバイスの2本で、Poster Session Iは11月12日です。

2026 Plenary（imec）
Geert Vandenberghe（imec, Belgium） MNC 2026 Plenary
2026 Plenary（RIKEN）
Seigo Tarucha（RIKEN, Japan） MNC 2026 Plenary
2026 Plenary（University of Twente）
Wilfred van der Wiel MNC 2026 Plenary
2026 Special Talk
Greet Storms（ASML, The Netherlands） MNC 2026 Special Talk
2026 Symposium A
AI × High-NA EUV × Novel Materials × Sustainability（1. Lithographyと6. ALPの合同） MNC 2026 Symposium
2026 Symposium B
Process and Device Technologies for Quantum Computing IV MNC 2026 Symposium
2026 Keynote（1-3 Patterning Materials）
Toru Fujimori（Hitachi High-Tech）、photoresistの変遷 MNC 2026 Keynote
2026 Poster Session I（program）
11月12日 15:40-17:10 MNC 2026 Program (PDF ver5)

発表と委員会の顔ぶれ

2025年 プログラムの筆頭著者の所属（314件）

プログラム

  • 企業9.2%
  • 大学78%
  • 研究機関7.3%

企業

  1. NTT7
  2. Brewer Science2
  3. Air Liquide Labs.1
  4. Applied Materials1
  5. ASML1
  6. Canon1
  7. Hitachi High-Tech1
  8. HJL Lithography1
  9. IBM Research1
  10. Inpria1
ほか5社
  1. Kojundo Chemical Lab.1
  2. Murata Manufacturing1
  3. NIL Technology1
  4. Nissan Chemical1
  5. NVIDIA1

国・地域

  1. 日本214
  2. 韓国34
  3. 台湾27
  4. 米国11
  5. ドイツ5
  6. インドネシア4
  7. デンマーク4
  8. 中国4
  9. オランダ2
  10. ベルギー2
ほか7か国・地域
  1. アラブ首長国連邦1
  2. イタリア1
  3. トルコ1
  4. フランス1
  5. ブルガリア1
  6. 英国1
  7. 香港1

2025年 委員会の所属（252名）

委員会名簿

  • 企業17.5%
  • 大学65.1%
  • 研究機関11.5%

企業

  1. Hitachi5
  2. JSR4
  3. NTT4
  4. ASML Japan3
  5. Canon3
  6. Fujitsu3
  7. Hitachi High-Tech3
  8. Kioxia3
  9. ASML2
  10. Tokyo Ohka Kogyo2
ほか5社
  1. Air Liquide Labs.1
  2. Elionix1
  3. HJL Lithography1
  4. Japan Advanced Chemicals1
  5. Kojundo Chemical Lab.1

2025年 スポンサー・出展（21団体）

出展者一覧

協賛価格
Gold Sponsor 300,000円／Contribution, Supporting Membership and Sponsors 50,000円／Advertisement and Technical Exhibition 200,000円
掲載数×公式価格の合計
2,150,000円
  • 企業52.4%
  • 大学4.8%
  • 学会・団体42.9%
ゴールド
  • JSR
  • Hitachi
  • The Japan Society of Applied Physics
  • The Institute of Electrical Engineers of Japan
  • The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers
  • The Japan Society for Precision Engineering
  • The Japan Society of Mechanical Engineers
  • The Japanese Society for Synchrotron Radiation Research
  • The Japanese Society of Microscopy
  • The Japan Society of Vacuum and Surface Science
  • The Society for Chemistry and Micro-Nano Systems
  • Tokyo Ohka Kogyo
ほか9団体
  • NuFlare Technology
  • Tokyo Electron
  • CRESTEC
  • Elionix
  • Hakuto
  • University of Tokyo ARIM
  • JEOL
  • Heidelberg Instruments
  • SIJTechnology

委員会・展示

2026年の組織委員長は福岡大学の河野敦氏、Steering Committee委員長は九州工業大学の田中啓文氏、Program Committee委員長は日本大学の高瀬浩一氏です。Organizing Committeeには大学に加えてKioxia、Canon、JSR、東京応化、ASML Japan、NTTなどの所属者が入っています。

詳しく（公式資料8項目）

Advisory Boardには海外の所属が含まれ、programの発表者には韓国のPusan National Univ.や台湾のNational Taiwan Normal Univ.の所属も見られます。技術展示ブースは1ブース200,000円で、昼の時間帯にtechnical exhibitorによるLuncheon seminarが組まれています。

2026 委員長
Organizing: Atsushi Kohno（Fukuoka Univ.）／Steering: Hirofumi Tanaka（Kyushu Inst. of Technol.）／Program: Kouichi Takase（Nihon Univ.） MNC 2026 General
2026 Organizing Committeeの企業所属（例）
Kioxia、Canon、JSR、Tokyo Ohka、ASML Japan、NTT、Hitachi、Fujitsu MNC 2026 Committee
2026 Advisory Boardの所属（例）
Imperial College London、PSI、IMEC、Caltech、Stanford Univ.など海外所属を含む MNC 2026 Committee
2026 programの所属地（韓国の例）
Pusan National Univ., Korea MNC 2026 Program (PDF ver5)
2026 programの所属地（台湾の例）
National Taiwan Normal Univ., Taiwan MNC 2026 Program (PDF ver5)
2026 技術展示の出展料
1ブース200,000円（3日間） MNC 2026 Sponsor
2026 人材募集向け展示枠
Exhibition for human resources（1ブース170,000円） MNC 2026 Sponsor
2026 出展者のLuncheon seminar（program）
12:40-13:20 MNC 2026 Program (PDF ver5)

論文の公開

採択abstractは2026年11月10日にDigest of Papersとして公開されます。会議後、著者は11月5日〜30日にJapanese Journal of Applied Physics（JJAP）のMNC Focus Collectionへフルペーパーを投稿でき、投稿は任意です。

詳しく（公式資料5項目）

JJAPの原稿はabstractや既発表論文と同一であってはなりません。

2026 Digest of Papers公開日
2026-11-10 MNC 2026 General
2026 JJAP Focus Collection
MNC Focus Collection（JJAP、2027年6月） MNC 2026 General
2026 JJAP投稿期間
2026-11-05〜11-30 MNC 2026 Instruction JJAP
2026 JJAP投稿の位置づけ
任意 MNC 2026 Abstract
2026 JJAP原稿の条件
abstractや既発表論文と同一でないこと MNC 2026 Instruction JJAP

沿革

公式アーカイブは2002年以降の会期・会場・参加者数（括弧内は海外）・投稿数を一覧にしています。2002年の会場は東京、2024年は京都、2017年は韓国・済州島で、2021年はオンラインとオンデマンドでした。

詳しく（公式資料6項目）

2025年は東京のKFC Hall & Roomsで参加者582名（海外157名）、投稿341件です。

2025 会期・会場
2025-11-17〜20 / KFC Hall & Rooms, Tokyo MNC Archive
2025 参加者（うち海外）・投稿数
582（157）・341 MNC Archive
2024 会場
Kyoto Brighton Hotel, Kyoto（参加者582、海外105） MNC Archive
2017 会場（国外開催）
Ramada Plaza JeJu Hotel, JeJu, Korea MNC Archive
2021 開催形式
Online and On-demand MNC Archive
2002 会場（アーカイブ最古）
Tokyo Fashion Town (TFT), Tokyo MNC Archive

近い学会との違い

MNCは自らの範囲を、微細構造の作製とその物理・デバイスへの応用に加え、bio、医療情報、通信技術との融合応用まで含めると説明しています。姉妹会議にはEIPBN 2026（2026年5月26日〜29日、Denver）とMNE 2026（Interlaken）が挙がっています。

詳しく（公式資料3項目）
公式の範囲説明（2026 General）
微細構造作製と関連物理・デバイスに加え、bio・医療情報・通信との融合応用 MNC 2026 General
2026 Sister Conference（米国）
EIPBN 2026（2026-05-26〜29、Denver） MNC 2026 Home
公式の範囲説明（スポンサー募集ページ）
lithography、nanoimprint、resist materials、nanoprocessing、nanodevices、microsystem、bioMEMS MNC 2026 Sponsor

参加・活用

研究室にとっては、1〜2ページのabstractで発表し、会議後にJJAPのFocus Collectionへフルペーパーを出す二段構えの流れがあります。Late News Paperの枠があるため、9月時点の新しい結果も出せます。

詳しく（公式資料3項目）

企業の調査担当にとっては、委員会の企業所属、ASMLやimecの講演、技術展示と人材募集向け展示の枠が業界側の接点です。

2026 Late Newsの対象
Regular PaperとLate News PaperのどちらもJJAP Focus Collectionへ投稿可 MNC 2026 Abstract
2026 JJAP Focus Collectionからの賞
特集号の論文からbest paper awardを選考 MNC 2026 Instruction JJAP
2025 Young Author's Award（例）
Kyushu Inst. of Technol.ほかのAg/Ag2Sナノ粒子デバイスの発表 MNC 2025 Award

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
2026 正式名称
39th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2026) MNC 2026 General
2026 主催
The Japan Society of Applied Physics（応用物理学会） MNC 2026 General
2026 協力学会（例）
The Institute of Electrical Engineers of Japan、The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers、The Japan Society for Precision Engineering ほか計8団体 MNC 2026 General
開催頻度と開始年
1988年から毎年開催 MNC 2026 Sponsor
2026 事務局
Secretaryart Corporation（日本） MNC 2026 Home
2026 Sister Conference
EIPBN 2026（Denver）、MNE 2026（Interlaken） MNC 2026 Home

よくある質問

MNC 2026はいつ、どこで開かれますか？

2026年11月10日〜13日に、福岡のHotel New Otani Hakataで開かれます。keynote講演は11月10日からオンデマンドで公開されます。

主催はどこですか？

応用物理学会（The Japan Society of Applied Physics）が主催し、電気学会、電子情報通信学会、精密工学会など計8団体が協力しています。

何ページのabstractを出しますか？

A4の1〜2ページのPDFで、2ページでの提出が推奨されています。ファイルは3MB未満です。

2026年の締切はいつでしたか？

通常abstractは2026年7月1日締切が7月10日まで延長され、Late News Paperは9月1日締切でした。

発表は論文誌に載りますか？

abstractは11月10日にDigest of Papersとして公開されます。採択者は任意で11月5日〜30日にJJAPのMNC Focus Collectionへフルペーパーを投稿でき、JJAPの通常手順で査読されます。

いつから開かれていますか？

スポンサー募集ページは1988年から毎年開催と書いています。公式アーカイブには2002年以降の会期と参加者数が載っています。

企業は展示できますか？

技術展示は1ブース200,000円（3日間）、人材募集向け展示は1ブース170,000円です。技術展示の出展者向けに、昼の時間帯にLuncheon seminarが組まれています。

公式資料

  1. MNC 2026 Home 公式サイト
  2. MNC 2026 General 公式サイト
  3. MNC 2026 Committee 委員会
  4. MNC 2026 Abstract 募集要項
  5. MNC 2026 Instruction JJAP 論文集
  6. MNC 2026 Plenary プログラム
  7. MNC 2026 Special Talk プログラム
  8. MNC 2026 Keynote プログラム
ほか8件
  1. MNC 2026 Symposium プログラム
  2. MNC 2026 Program (PDF ver5) プログラム
  3. MNC 2026 Sponsor スポンサー・展示
  4. MNC Archive 沿革
  5. MNC 2025 Award 過去回
  6. プログラム プログラム
  7. 沿革 沿革
  8. スポンサー料金 スポンサー・展示