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コータデベロッパ、TELが売上シェア91%|Gartner集計、High-NAラボもTEL

imecとASMLのHigh-NA共同ラボで露光機とつなぐトラックとして導入を発表したのは、東京エレクトロン(TEL)だ。TELは2021年、この共同ラボで、0.55NAの露光機EXE:5000とインラインでつなぐコータ・デベロッパを導入する1と発表した。2025年6月にはimecとの提携を新たに5年延ばし、High-NAのパターン形成で材料の組み合わせと欠陥制御を共同で開発するとした2。SCREENは、トラックDT-3000を使ったEUVの論文を出してきた。imecと組んだ2021年の評価に使った露光機は、0.33NAのNXE:3400だった。中国の芯源微(Kingsemi)はArF液浸向けまでの型番を発表しているが、量産での実績を述べているのはKrFまでの機種だ。

売上の集計でも、TELの比重は大きい。TELが決算説明に載せたGartnerの集計(TEL作図)では、2025年のトラック市場でTELの売上シェアは91%で3、ここから計算すると、TEL以外の各社が分ける部分は約9%になる。この91%とTEL自身が示すEUV向け100%の違いはHigh-NA向けトラックのシェアで調べた。トラックで生まれる欠陥とTELの新機種の欠陥対策は、TEL LITHIUS Pro DICEの記事にまとめている。

トラックは露光機と組んで認定されるので、顧客は乗り換えにくい

Section titled “トラックは露光機と組んで認定されるので、顧客は乗り換えにくい”

トラックは、レジストの塗布と現像を受け持ち、露光機と連結して使う4装置だ。競合の芯源微は2025年の年次報告で、前工程のトラックは顧客の工程やレジストと結びつきが強く、顧客の露光機とつないだ量産検証が要り、検証の期間と費用がかかるので、通過した後の顧客の定着は非常に強い5と書いている。同じ報告は、この市場が長く海外メーカーの寡占にある5とも書く。

芯源微のこの説明は、量産ラインで露光機と組んで検証を通ったトラックほど置き換えにくいことを示している。High-NAでは、imec-ASMLの共同ラボの段階から露光機と組む計画を発表したのがTELだ。imecは、High-NAの試作機を露光機とトラックをつないだ1組6として評価する方針を示している。

2021年から2025年までの年表。上段の東京エレクトロンは2021年6月にHigh-NA共同ラボへのトラック導入を発表し、2025年6月にimecとの提携を5年延長、2025年12月にLITHIUS Pro DICEを発売。下段のSCREENは2021年、2022年、2023年にimecとのEUV評価やEUV欠陥制御の論文を出している。
TELはHigh-NAの共同ラボと新機種の発表を重ね、SCREENはDT-3000を使ったEUVの論文を出してきた。丸がTEL、四角がSCREENの発表で、SCREENの位置はSPIEの論文集の公開時期。

SCREENは、DT-3000を使ったEUVの論文を出してきた

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SCREENのトラックDT-3000(SOKUDO DUO)は、2本の処理ラインを並べた構成で毎時450枚以上を処理できる7。片方のラインを動かしたまま、もう片方を保守できる。SCREENは製品ページで、対応する工程にArF液浸、電子線、誘導自己組織化(DSA)を挙げる。TELはLITHIUS Pro DICEの処理能力をインラインで毎時440枚8と示しており、2社の値は測る条件の書き方が違う。

imecとSCREENの研究者らは2021年、DT-3000とASMLの0.33NAの露光機NXE:3400を使い、密な線と間隔のパターンで、感度、寸法の均一性、線幅の粗さ、欠陥の水準を改善した9と報告した。その後も、2022年に「新しいトラックのハードウェアとEUVの欠陥低減への寄与10」、2023年に「SCREENのDT-3000トラックでのEUV工程の安定性と欠陥制御11」という題の論文が出ている。3本とも、imecとASMLがHigh-NAの共同ラボを開いた2024年6より前の論文だ。

芯源微はArF液浸向けまでの型番を発表し、量産の実績はKrFまで

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芯源微は、主力のKS-FT200/300を中国で開発・製造した最初のフォトリソグラフィ用トラック12と位置づける。2025年の年次報告によれば、同社はoffline、i線、KrF、ArF液浸向けを含む複数の型番を発表した5。複数の顧客で量産のデータが良好だと書いているのは、offline、i線、KrFなどの機種だ。同社は、量産用の前工程トラックを出せる数少ない中国企業だと自らを位置づける。

2025年の主営業務収入のうち、93.22%が中国本土向けだった5。研究開発の人員や売上の内訳は中国半導体装置メーカーの比較にまとめた。

DICEは、EUVからi線までを1機種で受ける前機種の範囲を引き継いだ

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TELはLITHIUS Pro DICEを、High-NA EUVからDUVまでの工程に使える機種13として発表した。ただ、TELの製品表を見ると、前機種のLITHIUS Pro ZもEUV、ArF液浸、ArF、KrF、i線、スピンオンカーボン(SOC)を対象にしていた。DICEの対象工程はこれと同じで、変わったのはインラインの処理能力が毎時300枚から440枚8に上がった点だ。先端の層と既存の層を同じ系列の機種で受ける構成は、DICEの前から続いている。

TELは2026年4月の決算説明で、2027年3月期のコータ・デベロッパの売上を前年比50%以上増やす3と見込んだ。理由に挙げたのは、DRAMメーカーのEUV採用と、ロジックメーカーのEUV多重露光だ。

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