コータデベロッパのEUV向け100%は自社推定Gartner集計ではトラック全体で91%
東京エレクトロン（TEL）は、High-NAを評価するimecとASMLの共同ラボで、露光機につなぐトラックを担う。トラック（コータ・デベロッパ）とは、露光の前にウェーハへレジストを塗り、露光の後に現像する装置で、露光機と連結して使う。TELが決算説明に載せたGartnerの集計（TEL作図）では、TELは2025年のトラック市場の91%1を売上で占める。TELはさらに、EUV向けで100%、High-NAの工程でほぼ100%のシェアを示すが、こちらはTEL自身の推定だ2。
TELのトラックの伸びを支えるのは、0.33NAのEUVの広がりだ。2026年4月の決算説明でTELは、2027年3月期のコータ・デベロッパ売上を前年比50%以上増1と見込む。理由はDRAMメーカーのEUV採用とロジックメーカーのEUV多重露光だ。High-NAがなぜトラックの条件を厳しくするかは、High-NA EUVの残る課題は焦点深度・確率的欠陥・継ぎ目で扱っている。
TELを経由したGartnerの集計で示されるのは、トラック全体の91%
Section titled “TELを経由したGartnerの集計で示されるのは、トラック全体の91%”TELのシェアの数字は、出典によって集計の範囲が違う（図1）。
トラック全体の数字は、TELが2026年4月の決算説明資料に載せたGartnerの集計だ1。2025年の出荷売上で、フォトレジスト処理装置（トラック）に占めるTELのシェアは91%だった。グラフと計算はTELがGartnerのデータから作っている。
EUV向けの数字は性質が違う。TELの統合報告書2025は、EUV向けのコータ・デベロッパでシェア100%2と書き、注で「当社推定」と断っている。TELは2021年にも、EUV露光機とインラインでつなぐコータ・デベロッパのシェアが100%3だと述べた。製品ページでは、全体で90%、High-NAの工程ではほぼ100%4と示す。
全体の91%はGartnerのデータに基づき、EUVの露光機とつなぐトラックを量産でほぼ1社で担っているという見方はTEL自身のものだ。High-NAに要るほかの製品と供給元は、High-NA EUVを支えるASML以外の製品にまとめている。
High-NAの開発拠点には、最初からTELのトラックが入っている
Section titled “High-NAの開発拠点には、最初からTELのトラックが入っている”TELは2021年、imecとASMLの共同High-NAラボに、EXE:5000とインラインでつなぐコータ・デベロッパを導入する3と発表した。従来の化学増幅型レジストと下層膜に加えて、金属を含むレジストを同じ1台で扱う処理モジュールを備える。imecも、試作機を露光機とトラックをつないだ1組5として評価する方針を示した。
この関係は0.33NAのEUVから続いている。imecとTELは2025年6月に提携を5年延長し、その発表で、両者が共同開発したEUVレジストの塗布トラック技術が欠陥を大きく減らし、EUVの量産導入を可能にした6と振り返った。新しい5年では、High-NAのパターン形成で材料の組み合わせと欠陥制御を共同で開発する。
TELがトラックの伸びの理由に挙げるのは、DRAMとロジックでの0.33NAのEUV
Section titled “TELがトラックの伸びの理由に挙げるのは、DRAMとロジックでの0.33NAのEUV”TELの決算説明では、コータ・デベロッパの引き合いはほぼすべての顧客から、増産と微細化の両方で来ている1。理由として挙げたのは、DRAMのEUV採用とロジックのEUV多重露光だ。
多重露光は、露光のたびにレジストを塗って現像する。2回露光のLELEなら、その層でトラックを2回通る。High-NAで1回にまとめると、その層でトラックを通る回数は1回に減る。TELは統合報告書で、先端ロジックのリソグラフィで性能とコストの釣り合いを取り、EUVを使う回数を最適化するために、High-NA EUV、多重露光との組み合わせ、金属酸化物レジストの採用、異方性エッチング2を評価していると書く。High-NAと多重露光のどちらが安いかは、High-NAが多重露光より安くなるのは3回以上の露光をまとめる層からで調べた。
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- 4東京エレクトロン：製品とサービス、コータ・デベロッパのシェアtel.com ↩
- 5imec：High-NA EUV時代への移行、露光機とトラックの評価（2024年7月）imec-int.com ↩
- 6東京エレクトロン：imecとの提携を5年延長（2025年6月）tel.com ↩