DTI(深いトレンチ分離)前工程 › 素子分離
DTI(深いトレンチ分離)は、隣り合う素子、イメージセンサでは画素のフォトダイオードどうしの間に深い溝を掘り、絶縁物などで埋めて分離する構造とその形成工程である。斜めに入った光や発生した電荷が隣の画素へ回り込むと混色が起きるため、深い仕切りでこれを抑える。表面付近だけを分けるSTI(シャロートレンチ分離)に比べて溝がはるかに深く、裏面照射型のイメージセンサで多く使われる。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”素子分離の下にある工程で、同じ分類にはほかに4工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”MDI(中間誘電体分離)、STI(シャロートレンチ分離)、電荷トラップ層分断(CTカット)、ディフュージョンブレーク(SDB・DDB)形成