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MDI(中間誘電体分離)|前工程 › 素子分離

MDI(中間誘電体分離)は、CFETで上下に重ねたnFETとpFETのゲートの間に、上下を隔てる誘電体の仕切りを作る工程モジュールである。この仕切りで上下のゲートが分かれるので、上と下のトランジスタに異なる仕事関数金属を使い分け、しきい値電圧を別々に設定できる。素子を縦に重ねるCFETに特有の工程で、基板の面内で素子を隔てるSTIなどとは仕切る向きが異なる。

工程の分類›前工程›素子分離› MDI(中間誘電体分離)

素子分離の下にある工程で、同じ分類にはほかに4工程がある。

DTI(深いトレンチ分離)、STI(シャロートレンチ分離)、電荷トラップ層分断(CTカット)、ディフュージョンブレーク(SDB・DDB)形成