MDI(中間誘電体分離)前工程 › 素子分離
MDI(中間誘電体分離)は、CFETで上下に重ねたnFETとpFETのゲートの間に、上下を隔てる誘電体の仕切りを作る工程モジュールである。この仕切りで上下のゲートが分かれるので、上と下のトランジスタに異なる仕事関数金属を使い分け、しきい値電圧を別々に設定できる。素子を縦に重ねるCFETに特有の工程で、基板の面内で素子を隔てるSTIなどとは仕切る向きが異なる。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”素子分離の下にある工程で、同じ分類にはほかに4工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”DTI(深いトレンチ分離)、STI(シャロートレンチ分離)、電荷トラップ層分断(CTカット)、ディフュージョンブレーク(SDB・DDB)形成