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MEMS犠牲層リリース|前工程 › エッチング

MEMS犠牲層リリースは、製造中に構造を支えていた犠牲層だけをエッチングで取り除き、梁や膜の下に空隙を作って動ける状態にする工程である。残す構造材と犠牲層のエッチング速度の差(選択比)を使って空間を空け、MEMSの可動構造として働かせる。処理を長くすると支持部や構造膜も消耗し、完了は可動構造の形状と動作で確認する。GAAのチャネルリリースとは材料も目的も異なる。

工程の分類›前工程›エッチング› MEMS犠牲層リリース

エッチングの下にある工程で、同じ分類にはほかに6工程がある。

ドライエッチング、ウェットエッチング、アッシング・レジスト剥離、ALE(原子層エッチング)、チャネルリリース、メサ形成・メサエッチ