MEMS犠牲層リリース前工程 › エッチング
MEMS犠牲層リリースは、製造中に構造を支えていた犠牲層だけをエッチングで取り除き、梁や膜の下に空隙を作って動ける状態にする工程である。残す構造材と犠牲層のエッチング速度の差(選択比)を使って空間を空け、MEMSの可動構造として働かせる。処理を長くすると支持部や構造膜も消耗し、完了は可動構造の形状と動作で確認する。GAAのチャネルリリースとは材料も目的も異なる。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”エッチングの下にある工程で、同じ分類にはほかに6工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”ドライエッチング、ウェットエッチング、アッシング・レジスト剥離、ALE(原子層エッチング)、チャネルリリース、メサ形成・メサエッチ