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ウェーハレベル気密封止とは

ウェーハレベル気密封止(Wafer-Level Hermetic Sealing)とは、ウェーハ上の多数のデバイスへ同時に蓋を接合し、内部空間を外気から隔離する工程です。MEMSの可動部分を保護し、内部のガスや圧力を必要な状態に保ちます。

多数のデバイスをまとめて保護できますが、接合不良や内部汚染が広い範囲へ影響します。接合温度と可動構造の耐性、必要な内部雰囲気を両立させます。

ウェーハレベル気密封止の仕組み

Section titled “ウェーハレベル気密封止の仕組み”
工程の仕組み
接合リングで、内部空間を密封する接合前接合後部材接合する部材接合界面
キャップとデバイス側の接合リングをつなぎ、空間を外気から隔離します。リングの途切れや空隙は漏れの原因です。

ウェーハレベル気密封止の工程では1、ウェーハ上の多数のデバイスへ同時に蓋を接合し、内部空間を外気から隔離する工程です。MEMSの可動部分を保護し、内部のガスや圧力を必要な状態に保ちます。

デバイス面とキャップ面を準備し、接合リングを位置合わせします。指定の雰囲気や真空で接合し、気密性と内部状態を検査して個片化へ進みます。

工程の仕組み
粒子・空隙が、接触する面を減らす空隙が残る界面がつながる部材接合部材界面の粒子
粒子や反りがあると、面の一部が接触しません。接合後に空隙と強度を確認し、気密封止では漏れも検査します。

接合面の粒子、リングの連続性、ボイド、漏れ、内部圧力を管理します。接合できた面積だけでは密封を証明できず、外部から内部へつながる経路がないことを確かめます。

ウェーハレベル気密封止後に確認すること

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接合後は、界面ボイド、位置ずれ、接合強度、反り、電気接続または気密性を確認します。接合温度や圧力だけでなく、接合前の清浄度、粗さ、材料組合せが結果を決めます。不良位置が粒子、面内温度、荷重分布のどれと対応するかを調べます。

ウェーハレベル気密封止は何をする工程ですか?

ウェーハ上の多数のデバイスへ同時に蓋を接合し、内部空間を外気から隔離する工程です。MEMSの可動部分を保護し、内部のガスや圧力を必要な状態に保ちます。

どの段階で行いますか?

デバイス面とキャップ面を準備し、接合リングを位置合わせします。指定の雰囲気や真空で接合し、気密性と内部状態を検査して個片化へ進みます。

どこを管理しますか?

接合面の粒子、リングの連続性、ボイド、漏れ、内部圧力を管理します。接合できた面積だけでは密封を証明できず、外部から内部へつながる経路がないことを確かめます。

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    Bosch Semiconductorbosch-semiconductors.com ・ 2026年10月12日閲覧 ↩