FCVD（流動性CVD）｜前工程 › 成膜 › CVD（化学気相成長）

FCVD（流動性CVD）は、流れる性質を持つ膜をCVDで形成し、その流動によって狭い溝や隙間を底から埋める成膜方法である。気相から積む通常のCVDでは溝の入口の角が先に育って口が閉じ、内部にボイド（空洞）が残りやすいため、これを避けるために使われる。下から埋まる利点がある一方、膜が固まった後に応力が残ることがあり、成膜後の熱処理で膜質を整え直す工程が必要になることがある。