PECVD（プラズマCVD）前工程 › 成膜 › CVD（化学気相成長）
PECVD（プラズマCVD）は、プラズマで原料ガスを分解して反応を促し、熱だけで進める熱CVDより低い基板温度で薄膜を作るCVDの一種である。反応のエネルギーをプラズマから得るので、すでに作り込んだ配線や素子の熱予算の範囲で、絶縁膜やパッシベーション膜を形成できる。この熱予算への適合が採用理由の中心で、配線工程などで広く使われる。
分類上の位置
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CVD（化学気相成長）の下にある工程で、同じ分類にはほかに4工程がある。
この工程は、サブトラクティブ配線（金属直接エッチ）の「AlCu配線（サブトラクティブ）」の手順の一部として出てくる。
- プラズマCVD装置