SCREENとEV Group、チップごとにずれ補正｜後工程露光5機種、反り対応は共通

SCREEN SPEのDW-3100は、全体・局所・ダイ単位の3種類の位置合わせを掲げる。後工程向けの露光装置5機種（SCREEN、EV Group、Applied MaterialsとUshio、Nikon、キヤノン）の公表資料を並べると、基板の反りや歪みへの対応は5機種すべてが掲げる。チップごとのずれの補正を明記しているのは、DW-3100とEV GroupのLITHOSCALE XTだ。解像の数字は各社で指標が違い、SCREENは1 µm未満の解像¹を掲げる。

SCREENの前の機種DW-3000について、DW-3000を使うカナダの研究施設C2MIは、補正を全体と局所の歪みの実時間補正²と紹介し、解像を3 µm（L/S）としている。DW-3100は、これに対して3種類の位置合わせと1 µm未満の解像を掲げる。チップのずれがなぜマスクレス露光を求めるかは、DW-3100の解説で扱った。

反りと歪みへの対応は、5機種すべてが掲げている

基板の反りへの対応は、5機種に共通する売り文句だ。EV Groupは2025年5月に発表したLITHOSCALE XTで、反ったウェーハに対してウェーハ全体の歪みとチップのずれを実時間で補正する³と説明した。Applied MaterialsとUshioは2023年12月、両社のデジタル露光装置DLTが予測しにくい基板の反りに対処し、重ね合わせの精度を出すよう設計されている⁴と発表した。Nikonも2025年7月の発表で、DSP-100が基板の反りと変形を高い精度で補正するとした⁵。

マスクを使うステッパーも、反った基板を扱う。キヤノンのパネル用ステッパーFPA-8000iWは⁶、最大10 mmの反りに対応し、重ね合わせ精度を200 nm以下とする。反りやすい有機基板の事情は、大型パッケージ基板の反りの記事にまとめている。

5機種の公表資料では、反りへの対応は全機種に共通し、チップごとの補正はSCREENとEV Groupが明記する。解像の数字は各社で指標が違う。キヤノンの機種だけがマスクを使うステッパーだ。

5機種のうち、チップごとの補正を明記するのはSCREENとEV Groupだ

チップ1個ずつのずれに合わせて描く機能を製品の仕様に書いているのは、DW-3100のダイ単位の位置合わせと¹、LITHOSCALE XTのダイシフト補正だ³。LITHOSCALE XTは露光ヘッドを最大6個並べ、300 mmウェーハか300×300 mmのパネルを並行して露光する。

測定とデータ生成の工程を組んで、チップごとに図形を作り直す方法もある。Deca Technologiesのアダプティブパターニングは、成形後にすべてのチップの位置を光学式のスキャナーで測り、パネルごとに専用の露光データを作ってマスクレスのレーザー直描装置で描く。Decaの2022年の発表によれば⁷、使う装置は日立ビアメカニクス（現ADTEC Engineering）の機械を改造したものだ。Decaは、X・Y方向に±15 µm、回転±0.1度のずれがある2チップの試験で、歩留まり100%を示した。チップごとの補正は、露光装置の機能としても、測定とデータ生成を組み合わせた工程としても実現されている。

解像の数字は、各社で指標が違う

各社が掲げる解像の数字は、指標がそろっていない。SCREENはDW-3100の解像を1 µm未満とし⁸、光学系を全面的に設計し直して実現したと説明する。NikonのDSP-100は1.0 µmのL/S⁵、マスクを使うキヤノンのFPA-8000iWは解像1.0 µm以下だ⁶。LITHOSCALE XTは2 µm未満のライン・アンド・スペース³、Applied MaterialsとUshioのDLTは2 µm未満の線幅⁴を掲げる。Applied MaterialsとUshioは、1 µmとそれより細い線幅へ進める計画を示した。

どの配線ルールに何 µmの解像が要るかは、1.0 µm機と1.5 µm機の比較で検討した。そこでの整理では、2/2 µmまでの配線は1.5 µm機の解像の範囲に入り、1.0 µm機が要るのは2 µm未満の配線になる。

基板の寸法と出荷の段階は、機種ごとに違う

対応する基板の大きさは機種で違う。DW-3100はウェーハ向けと角型パネル向けの構成¹を選べる。NikonのDSP-100は最大600×600 mmの角型基板⁵を扱い、510×515 mmの基板で毎時50枚を処理する。キヤノンのFPA-8000iWは515×510 mmのパネル⁶を処理する。パネルの寸法の動向は、ガラスコアのパネル寸法の記事にある。DSP-100の処理能力の数字の読み方は、DSP-100の記事で扱った。

出荷の段階もそろっていない。Applied MaterialsとUshioは2023年12月の時点で、DLTの量産機を複数の顧客へ出荷した⁴と発表している。EV Groupは2025年5月にLITHOSCALE XTの受注を始めた。Nikonは2025年7月にDSP-100の販売を始め、2026年度に発売する予定だ。SCREENは2025年12月にDW-3100の販売を始めた⁸。

関連ページ

• 装置・品質SCREEN DW-3100のダイレクトイメージング
• 装置・品質露光で描くチップIDと製造履歴
• 装置・品質後工程露光の1.0 µm機と1.5 µm機の比較
• 装置・品質Nikon DSP-100のデジタル露光
• 装置・品質マスクレス露光とつなぎ露光の比較
• 後工程ガラスコアのパネル寸法
• 企業研究企業研究：SCREEN Holdings
• 企業研究企業研究：ニコン
• 企業研究企業研究：キヤノン
• 企業研究企業研究：Applied Materials

出典

8件を表示

1. 1
   SCREEN SPE：DW-3100の製品ページ、3種類の位置合わせと構成screen.co.jp ↩abc
2. 2
   C2MI：DW-3000の装置仕様、歪み補正と解像c2mi.ca ↩
3. 3
   EV Group：LITHOSCALE XTの発表、ダイシフト補正と解像（2025年5月）evgroup.com ↩abc
4. 4
   Applied Materials・Ushio：デジタル露光装置DLTの提携と出荷（2023年12月）nasdaq.com ↩abc
5. 5
   Nikon：DSP-100の受注開始と仕様（2025年7月）nikon.com ↩abc
6. 6
   キヤノン：FPA-8000iWの製品仕様global.canon ↩abc
7. 7
   Deca Technologies：マスクレス露光とアダプティブパターニング（IMAPS DPC 2022）imapsource.org ↩
8. 8
   SCREEN SPE：DW-3100の発売、解像と補正技術（2025年12月）screen.co.jp ↩ab