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無電解めっきとは

無電解めっき(Electroless Plating)とは、外部電源から電流を流さず、薬液中の還元反応で金属膜を析出させる工程です。触媒となる表面と薬液の化学反応によって成膜を進めます。

外部通電の難しい形状でも成膜できますが、表面活性と液の安定性へ依存します。触媒選択性を保ち、必要な部分だけへ均一な膜を作ることが課題になります。

工程の仕組み
原料を供給し、基板上へ膜を形成する成膜前成膜後基板・部材対象の膜
無電解めっきは、触媒となる表面と薬液の還元反応で金属を析出させます。外部から通電する電解めっきとは異なります。

無電解めっきの工程では1、外部電源から電流を流さず、薬液中の還元反応で金属膜を析出させる工程です。触媒となる表面と薬液の化学反応によって成膜を進めます。

表面を洗浄して必要な触媒活性を作り、めっき液へ接触させます。反応で金属を析出させ、リンスと乾燥へ進みます。電解めっきの通電用シードとは条件が異なります。

供給と被覆
薬液中の還元反応で、金属を析出させる金属イオンと還元剤表面と開口底の膜厚を確認基板・部材対象の膜
薬液の状態と触媒表面が成膜を決めます。析出速度に加え、不要な位置への析出や粒子を確認します。

液の組成、温度、還元剤、pH、触媒表面を管理します。析出速度だけでなく、不要な場所への析出や液中粒子を確認します。

無電解めっき後に確認すること

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無電解めっきの自己触媒的な析出1後は、膜厚と面内均一性に加え、組成、密着、抵抗、開口内の充填、不要な位置への析出と粒子を確認します。析出不足や浴の不安定化が起きたときは、外部電流ではなく、触媒表面の状態、浴組成、pH、温度、還元剤と金属イオンの消耗を対応付けます。

無電解めっきは何をする工程ですか?

外部電源から電流を流さず、薬液中の還元反応で金属膜を析出させる工程です。触媒となる表面と薬液の化学反応によって成膜を進めます。

どの段階で行いますか?

表面を洗浄して必要な触媒活性を作り、めっき液へ接触させます。反応で金属を析出させ、リンスと乾燥へ進みます。電解めっきの通電用シードとは条件が異なります。

どこを管理しますか?

液の組成、温度、還元剤、pH、触媒表面を管理します。析出速度だけでなく、不要な場所への析出や液中粒子を確認します。

  • CVD ── 関連する工程・材料の説明
  • ALD ── 関連する工程・材料の説明
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    Patent sourcepatents.google.com ・ 2026年10月12日閲覧 ab