脱水ベーク｜前工程 › リソグラフィ › 塗布・現像 › レジスト塗布・ベーク

脱水ベークは、レジストを塗る前にウェーハを加熱し、表面に吸着した水分を減らす工程である。水が残った界面ではレジストが密着しにくく、現像やエッチングの途中で膜が剥がれる原因になる。加熱を強めるほど脱水は進むが、すでに形成した膜が耐えられる熱の範囲に収める必要がある。フォトレジストの一連の工程では最初に置かれ、その後に密着性を高めるHMDS（ヘキサメチルジシラザン）プライムが続く。