PAB（塗布後ベーク）｜前工程 › リソグラフィ › 塗布・現像 › レジスト塗布・ベーク

PAB（塗布後ベーク）は、レジストを塗った後、露光の前にウェーハを加熱し、膜の中に残った溶剤を減らす工程で、ソフトベークやプリベークとも呼ばれる。溶剤が残ると密着不良が起き、膜の感光特性も不安定になるため、露光に適した膜の状態に整える。加熱が強すぎると感光性や現像性が変わることがあるので、乾燥だけを追わずに条件を決める。フォトレジストの一連の工程では塗布とEBR（エッジビード除去）の後、露光の前に置かれる。