PEB（露光後ベーク）｜前工程 › リソグラフィ › 塗布・現像 › レジスト塗布・ベーク

PEB（露光後ベーク）は、露光の後、現像の前にレジストを加熱し、露光で作られた反応の分布を現像できる状態に変える工程である。化学増幅型レジストでは、露光で光酸発生剤から生まれた酸が加熱中に拡散し、触媒として反応を進めて現像液への溶けやすさを変える。加熱で反応が進むと同時に酸も広がって境界がぼやけるため、十分な反応とパターンの鮮明さを両立させる条件が要る。溶剤を飛ばすことが目的のPAB（塗布後ベーク）とは役割が異なる。