EBL（電子線直接描画）｜前工程 › リソグラフィ › 露光

EBL（電子線直接描画）は、細く絞った電子ビームをレジスト上で走査し、マスクを介さずにパターンを直接描く露光である。電子の波長は光よりはるかに短く、光の露光より細かい図形を描ける。描画を順に進めるので処理速度は遅く、量産のウェーハ露光より研究開発での試作や少量品に使われる。同じ電子ビーム描画の原理は、フォトマスクのパターン描画にも使われる。