i線露光｜前工程 › リソグラフィ › 露光

i線露光は、水銀ランプが出す紫外線のうちi線と呼ばれる輝線を使って、マスクのパターンをレジストへ転写する露光である。エキシマレーザを使うDUV露光より波長が長く解像力は低いが、光源と装置が比較的簡素で、寸法の大きな層やパワー半導体、後工程の再配線などで使われる。g線露光の後継にあたり、ステッパやマスクアライナで広く用いられてきた。