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干渉露光|前工程 › リソグラフィ › 露光

干渉露光は、複数の光束を重ね合わせて生じる明暗の縞をレジストに当て、周期的なパターンを転写する露光である。マスクの像を投影せずに広い面へ周期構造を作れ、回折格子の製作やレジストの解像性評価に使われる。一方、任意の形の回路図形を描く用途には向かず、周期と向き、面内の均一性で条件を決める点が投影露光と異なる。

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露光の下にある工程で、同じ分類にはほかに7工程がある。

DUV露光(深紫外線露光)、i線露光、EUV露光(極端紫外線露光)、マスクレス露光(直接描画露光)、EBL(電子線直接描画)、NIL(ナノインプリントリソグラフィ)、WEE(ウェーハ周辺露光)