WEE（ウェーハ周辺露光）｜前工程 › リソグラフィ › 露光

WEE（ウェーハ周辺露光）は、ウェーハ外周のレジストだけを専用のユニットで別に露光し、後の現像で落とせるようにする工程である。外周部は露光装置の露光対象から外れることがあり、ポジ型レジストでは未露光の外周の膜が現像後も残って、搬送中に剥がれるとパーティクルの発生源になる。溶剤で縁を溶かすEBRとは異なり、光と現像を使って外周の膜を除く。