マスクレス露光（直接描画露光）｜前工程 › リソグラフィ › 露光

マスクレス露光（直接描画露光）は、フォトマスクを使わず、設計データに従ってレーザ光などをレジスト上で走査し、パターンを直接描く露光である。マスクを作る費用と時間がかからないため、試作や少量品、パッケージ基板の配線のように品種の多い用途で利点がある。一方、パターンを順に描くので、マスクの像を一括で写す投影露光より処理速度は遅い。