NIL（ナノインプリントリソグラフィ）前工程 › リソグラフィ › 露光
NIL（ナノインプリントリソグラフィ）は、微細な凹凸を刻んだ型（モールド）を基板上の樹脂に押し付け、その形を写し取ってパターンを作るリソグラフィ工程である。レンズでマスクの像を縮小する光学系に頼らず、型の形をそのまま転写できる点が縮小投影露光との違いである。粒子の噛み込みや離型時の欠陥の影響を受け、評価は充填と残膜除去まで含めた欠陥と寸法で行う。熱で樹脂を軟化させる熱ナノインプリントなどの方式がある。
分類上の位置
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露光の下にある工程で、同じ分類にはほかに7工程がある。
- 熱ナノインプリント：熱ナノインプリントは、加熱して軟らかくした樹脂などの材料にモールドを押し当て、冷やして固めてから型を外すことで微細な凹凸を写し取る工程である。
- ナノインプリント装置
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”DUV露光（深紫外線露光）、i線露光、EUV露光（極端紫外線露光）、マスクレス露光（直接描画露光）、EBL（電子線直接描画）、干渉露光、WEE（ウェーハ周辺露光）