エアギャップ形成前工程 › 配線形成
エアギャップ形成は、多層配線で隣り合う配線の間を固体の絶縁膜で埋めず、空洞として残す構造を作る工程である。配線の間隔が狭くなると線間の寄生容量が増え、信号の遅延と消費電力が大きくなるため、誘電率が最も低い空洞で容量を下げる。作り方には、線間に置いた犠牲材料を後で除く方法や、上を覆う絶縁膜で隙間の口だけをふさいで空洞を閉じ込める方法がある。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”配線形成の下にある工程で、同じ分類にはほかに8工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”BSPDN(裏面電源供給)、ボトムライナーレスビア形成、コバルト配線形成、Cuリフロー、ダマシン法、SAV(自己整合ビア形成)、セミダマシン配線形成、サブトラクティブ配線(金属直接エッチ)