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ミリ秒アニール|前工程 › アニール・熱処理

ミリ秒アニールは、ウェーハの表面をミリ秒の単位だけ高温にし、ドーパントが深く拡散する前に活性化を済ませる熱処理である。キセノンフラッシュランプの閃光で表面を加熱する方式が代表的で、フラッシュランプアニールとも呼ばれる。温度を上げると結晶の回復と活性化が速まるが、拡散と失活も同時に速まるため、高温にいる時間を短くして浅い接合を保つ。レーザで加熱するレーザアニールも同じ考え方に立つ。

工程の分類›前工程›アニール・熱処理› ミリ秒アニール

アニール・熱処理の下にある工程で、同じ分類にはほかに9工程がある。

活性化アニール、FGA(フォーミングガスアニール)、炉アニール(バッチ式熱処理)、レーザアニール、接合後アニール、PDA(成膜後アニール)、RTP(急速熱処理)、SPE(固相エピタキシャル成長)、マイクロ波アニール