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RMG(置換メタルゲート)|前工程 › ゲート形成

RMG(置換メタルゲート)は、先にダミーゲートで形を作ってソース・ドレインを仕上げ、その後ダミーを除いた溝へメタルゲートを埋め込むゲートの作り方である。ソース・ドレインの活性化には1000℃以上の熱処理が要るため、高温に弱いメタルゲートをその後に入れて熱から守り、high-k膜も溝へ後から入れる方式がある。流れは、ゲート形成、SDE注入、サイドウォールスペーサ形成、イオン注入の後に膜を積んでCMPで平坦にし、ダミーをエッチングで抜いて成膜し直してから、コンタクト形成へ進む1。

工程の分類›前工程›ゲート形成› RMG(置換メタルゲート)

ゲート形成の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。

Gate-Last(プレーナ型MGHK)は、TIA 共用施設 セミナー資料「ロジックトランジスタ」(柳下, 2024)1によると次の順に進む。

  1. ゲート形成
  2. SDE注入(ソース・ドレインエクステンション注入)
  3. サイドウォールスペーサ形成
  4. イオン注入
  5. 成膜
  6. CMP(化学機械研磨)
  7. エッチング
  8. 成膜
  9. コンタクト形成(MOL)

リモート界面層スカベンジング、ダイポール層形成

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