RMG(置換メタルゲート)前工程 › ゲート形成
RMG(置換メタルゲート)は、先にダミーゲートで形を作ってソース・ドレインを仕上げ、その後ダミーを除いた溝へメタルゲートを埋め込むゲートの作り方である。ソース・ドレインの活性化には1000℃以上の熱処理が要るため、高温に弱いメタルゲートをその後に入れて熱から守り、high-k膜も溝へ後から入れる方式がある。流れは、ゲート形成、SDE注入、サイドウォールスペーサ形成、イオン注入の後に膜を積んでCMPで平坦にし、ダミーをエッチングで抜いて成膜し直してから、コンタクト形成へ進む1。
分類上の位置
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ゲート形成の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。
Gate-Last(プレーナ型MGHK)は、TIA 共用施設 セミナー資料「ロジックトランジスタ」(柳下, 2024)1によると次の順に進む。
同じ分類の工程
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- 1TIA 共用施設 セミナー資料「ロジックトランジスタ」(柳下, 2024)tia-kyoyo.jp ab