選択成膜（領域選択成膜）｜前工程 › 成膜

選択成膜（領域選択成膜）は、下地の表面状態の違いを利用して、膜を付けたい面にだけ膜を成長させ、隣の面には成長させない成膜方法である。下地ごとに最初の核ができるまでの遅れが違うことを使う。構成によってはリソグラフィとエッチングを追加せずに狙った場所へ膜を置けるため、工程を減らし、合わせ精度の誤差も減らせる。ただし成膜を続けると不要な面にも核ができ、その箇所が配線間のショートなどの欠陥になる。