オゾン水洗浄前工程 › 洗浄・表面処理
オゾン水洗浄は、純水にオゾンを溶かした液でウェーハ表面の有機物を酸化分解して落とす洗浄である。強酸を使わずに有機物を除けるため、薬液の使用量と排水処理の負荷を抑えられる。オゾンの濃度には上限があり、作った後も時間とともに減っていくので、レジスト本体の除去よりも軽い有機汚染の除去や表面の酸化に使われる。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”洗浄・表面処理の下にある工程で、同じ分類にはほかに21工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”枚葉洗浄、ベベル洗浄・エッチング、低温エアロゾル洗浄、CVC洗浄（化学気相洗浄）、DDC（オゾン水・フッ酸交互洗浄）、DHF（希フッ酸）洗浄、表面改質（表面修飾）、IMECクリーン、IPA乾燥（イソプロピルアルコール乾燥）、メガソニック洗浄、CMP後洗浄、PERR（エッチング後残渣除去）、成膜前プリクリーン、RCA洗浄、室温四工程洗浄、スピン乾燥、SPM（硫酸過水洗浄）、超臨界CO₂乾燥、二流体洗浄、UVオゾン洗浄、リンス（純水による薬液置換）