RCA洗浄前工程 › 洗浄・表面処理
RCA洗浄は、過酸化水素を基本にした複数の薬液を順に使い、シリコンウェーハ表面の有機物・粒子・金属汚染を落とす洗浄の体系である。一種類の薬液では性質の違う汚染を落としきれないため、アルカリ性のSC-1で有機物と粒子を、酸性のSC-2で金属汚染を順に除く。薬液の間には純水リンスを挟み、必要に応じて希フッ酸で酸化膜を除く工程を加える。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”洗浄・表面処理の下にある工程で、同じ分類にはほかに21工程がある。
同じ分類の工程
Section titled “同じ分類の工程”枚葉洗浄、ベベル洗浄・エッチング、低温エアロゾル洗浄、CVC洗浄（化学気相洗浄）、DDC（オゾン水・フッ酸交互洗浄）、DHF（希フッ酸）洗浄、表面改質（表面修飾）、IMECクリーン、IPA乾燥（イソプロピルアルコール乾燥）、メガソニック洗浄、オゾン水洗浄、CMP後洗浄、PERR（エッチング後残渣除去）、成膜前プリクリーン、室温四工程洗浄、スピン乾燥、SPM（硫酸過水洗浄）、超臨界CO₂乾燥、二流体洗浄、UVオゾン洗浄、リンス（純水による薬液置換）